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2020年(nián)12月14日，國家知識産權局發布了知識産權行政執法指導案例“無錫新矽微電子(zǐ)有限公司與南京日新科技有限公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案”（指導案例5号）。下面就該指導案例的(de)理(lǐ)解與适用進行說明。
一(yī)、推選經過和(hé)指導意義
該指導案例為(wèi)國家知識産權局集成電路行政執法委員會審理(lǐ)的(de)第一(yī)件集成電路布圖設計專有權侵權糾紛案件，由國家知識産權局集成電路行政執法委員會（以下簡稱“行政執法委員會”）推薦作為(wèi)指導案例。2018年(nián)8月16日，行政執法委員會作出處理(lǐ)決定，認定請求人侵權行為(wèi)成立。處理(lǐ)決定作出後，雙方當事人均未就該決定提起行政訴訟。
根據國家知識産權局《關于知識産權行政執法案例指導工作的(de)規定（試行）》，經審核遴選、專家評審、案例指導工作委員會審議，認為(wèi)該案例在集成電路布圖設計專有權載體的(de)确定以及布圖設計專有權保護範圍的(de)确定方面，具有指導意義，可(kě)作為(wèi)備選指導案例。2020年(nián)12月，經國家知識産權局局務會審議通過，該案例作為(wèi)第一(yī)批指導案例發布。
《集成電路布圖設計保護條例》對上述原則沒有明确的(de)規定，行政執法委員會在該指導案例行政裁決中确定了如(rú)下原則：确定布圖設計保護範圍的(de)載體，以複制件或圖樣為(wèi)基礎，以集成電路樣品為(wèi)參考。該指導案例的(de)認定結論尊重法規、規章(zhāng)相關規定，充分考慮布圖設計專有權登記和(hé)保護現狀，參考行政、司法實踐探索，具備合理(lǐ)性和(hé)合法性，對今後辦理(lǐ)類似案件具有指導意義。
二、案件要點的(de)理(lǐ)解與說明
（一(yī)）權利載體的(de)效力認定
根據《集成電路布圖設計保護條例》（以下簡稱《條例》）第八條的(de)規定，隻有經過登記的(de)集成電路布圖設計才能獲得專有權保護，登記是獲得專有權的(de)必要條件。
根據《條例》第十六條與《集成電路布圖設計保護條例實施細則》（以下簡稱《細則》）第十四條的(de)規定，申請布圖設計登記應當提交布圖設計的(de)複制件或者圖樣；可(kě)以同時提供該複制件或者圖樣的(de)電子(zǐ)版本，電子(zǐ)版本應當包含該布圖設計的(de)全部信息；布圖設計已投入商業利用的(de)，還應當提交含有該布圖設計的(de)集成電路樣品。可(kě)見，布圖設計專有權的(de)權利載體包括兩種形式：複制件或圖樣、含有該複制件或圖樣的(de)集成電路樣品。兩種載體形式所反映的(de)布圖設計應當是相同的(de)。也就是說，登記備案時，申請人提交的(de)集成電路樣品內(nèi)部反映的(de)布圖設計應當與其提交的(de)複制件或圖樣所反映的(de)布圖設計是一(yī)緻的(de)。但有些申請人提交的(de)複制件或圖樣與集成電路樣品所反映的(de)布圖設計存在不同。此時權利載體是以複制件或圖樣為(wèi)準，還是以集成電路樣品為(wèi)準，并沒有一(yī)個統一(yī)标準，給執法實踐帶來困擾。
根據《條例》第十六條的(de)規定，無論該布圖設計是否投入商業利用，複制件或圖樣都是登記行為(wèi)的(de)構成要件；隻有在投入商業利用的(de)前提下，集成電路樣品才成為(wèi)登記行為(wèi)的(de)構成要件。可(kě)見，從登記行為(wèi)構成要件這個角度來看，複制件或圖樣處于布圖設計專有權載體的(de)核心地(dì)位。另外，布圖設計專有權經登記後确立，其面向社會公衆産生公示公信的(de)法律效力，社會公衆可(kě)信賴這種公示而為(wèi)一(yī)定行為(wèi)。例如(rú)，社會公衆通過查閱登記備案的(de)複制件或圖樣，能夠直接獲取複制件或圖樣上反映的(de)布圖設計，從而避免對受保護布圖設計的(de)複制或商業利用，也可(kě)以通過改進該布圖設計從而促進技術進步；而集成電路樣品無法實現這種效果，社會公衆通過查閱登記備案的(de)集成電路樣品隻能得到樣品外觀，不經專業手段無法得知其內(nèi)部的(de)布圖設計。可(kě)見，複制件或圖樣比集成電路樣品的(de)公示公信效力更強。從公示公信效力這個角度來看，應當優先以複制件或圖樣反映的(de)布圖設計為(wèi)準。
随着集成電路技術的(de)不斷發展，傳統意義上的(de)複制件或圖樣已經無法清楚完整地(dì)展示集成電路內(nèi)部布圖設計的(de)全部細節，至少需要放大千倍以上才能看清楚集成電路內(nèi)部的(de)層次和(hé)具體細節。對于納米技術而言，放大倍數要求更高(gāo)。在登記環節，對于比較複雜的(de)集成電路布圖設計來說，要求申請人提交一(yī)份能夠清楚完整地(dì)展示布圖設計全部細節的(de)複制件或圖樣，顯得過于苛求，申請成本也過于高(gāo)昂。因此有些申請人在登記備案時提交的(de)複制件或圖樣，并不能夠清晰表達布圖設計的(de)全部細節。單獨依靠這種不夠清晰的(de)複制件或圖樣，無法與被控侵權布圖設計進行準确的(de)對比分析，不利于查明侵權事實。申請人在登記備案時提交的(de)集成電路樣品，經過專業手段處理(lǐ)後能夠清楚準确地(dì)呈現布圖設計的(de)任何細微之處，在此基礎上與被控侵權布圖設計進行對比分析，能更準确地(dì)判斷侵權是否成立。可(kě)見，集成電路樣品可(kě)以作為(wèi)複制件或圖樣的(de)補充，當登記備案的(de)複制件或圖樣所反映的(de)布圖設計存在某些細節不夠清晰，對侵權判斷存在影響時，在集成電路樣品與複制件或圖樣一(yī)緻的(de)前提下，可(kě)以使用樣品呈現的(de)布圖設計來明确複制件或圖樣的(de)細節。該指導案例中，權利人在登記時同時提交了涉案布圖設計的(de)圖樣和(hé)集成電路樣品。經鑒定，圖樣和(hé)集成電路樣品所反映的(de)布圖設計相一(yī)緻，因而可(kě)以利用集成電路樣品所反映的(de)布圖設計來輔助确定圖樣的(de)細節。
綜上所述，關于權利載體的(de)效力認定問題，行政執法委員會認為(wèi)：登記時尚未投入商業利用的(de)布圖設計，以複制件或圖樣為(wèi)準。登記時已投入商業利用的(de)布圖設計，複制件或圖樣能夠清晰完整地(dì)呈現布圖設計全部細節的(de)，以複制件或圖樣為(wèi)準；複制件或圖樣的(de)細節不夠清晰，單獨依靠複制件或圖樣無法界定專有權保護範圍的(de)情況下，集成電路樣品與複制件或圖樣呈現的(de)布圖設計一(yī)緻時，可(kě)以參考集成電路樣品來明确複制件或圖樣不清晰的(de)細節。
（二）布圖設計專有權的(de)保護範圍認定
根據《條例》第四條的(de)規定，受保護的(de)布圖設計應當具有獨創性，或者雖然該布圖設計由常規設計組成，但該組合作為(wèi)整體應當具有獨創性。根據《條例》第三十條的(de)規定，對受保護布圖設計的(de)全部或者其中任何具有獨創性部分的(de)複制行為(wèi)，以及對受保護布圖設計、含有該布圖設計的(de)集成電路或者含有該集成電路的(de)物品的(de)商業利用行為(wèi)，視(shì)為(wèi)侵權行為(wèi)。可(kě)見，布圖設計專有權的(de)保護範圍以該布圖設計的(de)所有獨創性區域為(wèi)準。
由于我國對布圖設計專有權采用登記備案制度，隻要申請人提交的(de)材料符合形式要件，就可(kě)以獲得登記備案，而且現行法律法規并未要求申請登記時需要對布圖設計的(de)獨創性作出聲明，因此經過登記的(de)布圖設計的(de)獨創性區域并不明确，社會公衆對該布圖設計專有權的(de)保護範圍缺乏明确預期，容易發生侵權糾紛。侵權糾紛發生時，如(rú)何确定布圖設計專有權的(de)保護範圍，司法實務并不多見，也沒有統一(yī)标準，給執法實踐帶來困擾。
該指導案例中，涉案布圖設計專有權處于存續期間，權利人結合涉案布圖設計的(de)圖樣，在請求書中聲明布圖設計共有11個獨創性區域，并對各獨創性區域的(de)設計要點、實現功能進行了具體說明。在涉案布圖設計專有權保護範圍的(de)認定方面，行政執法委員會認為(wèi)：布圖設計專有權的(de)保護範圍以該布圖設計的(de)所有獨創性區域為(wèi)準，布圖設計權利人可(kě)以就全部獨創性區域主張專有權，也可(kě)以就其中的(de)一(yī)部分獨創性區域主張專有權。這屬于當事人意思自(zì)治範疇，因而在侵權糾紛案件中應當以布圖設計為(wèi)基礎，結合權利人在請求書中的(de)獨創性聲明，确定權利人主張的(de)保護範圍，據此與被控侵權布圖設計進行比對分析，判斷侵權是否成立。同時根據《條例》第二條、第五條的(de)規定，布圖設計是指集成電路中元件和(hé)互連線路的(de)三維配置，對布圖設計的(de)保護，不延及思想、處理(lǐ)過程、操作方法或者數學(xué)概念等，電路的(de)功能、電路的(de)原理(lǐ)、要實現的(de)效果、處理(lǐ)過程、設計思想等，不應作為(wèi)确定保護範圍的(de)依據。因此，該指導案例将權利人劃分的(de)11個獨創性區域認定為(wèi)布圖設計專有權保護範圍，與被控侵權布圖設計的(de)對應區域進行比對，同時對權利人提交的(de)獨創性聲明中涉及功能的(de)描述不予考慮。
綜上所述，關于如(rú)何确定布圖設計專有權保護範圍，行政執法委員會認為(wèi)：鑒于布圖設計登記時不要求聲明其獨創性，在侵權糾紛中，應依據權利載體載明的(de)布圖設計，結合權利人在請求書中作出的(de)獨創性聲明，确定權利人主張的(de)專有權保護範圍，并以此保護範圍為(wèi)準判斷侵權行為(wèi)是否成立。此外，對于權利人在獨創性聲明中涉及設計思想、功能的(de)描述，在确定布圖設計專有權保護範圍時不予考慮。
